Brands
產品專區
Hiden Analytical－第 7 頁
Hiden Analytical 是英國專業四極桿質譜儀製造商，擁有超過 40 年的設計、研發與製造經驗，專注於先進研究、真空診斷與製程監測應用。產品涵蓋即時氣體與蒸氣分析（Gas Analysis）、殘餘氣體分析（RGA）、催化與熱分析、電化學質譜（DEMS／OEMS）、電漿離子分析、SIMS 表面分析及特殊取樣系統等完整解決方案。Hiden 系統廣泛應用於半導體、真空科技、材料科學、能源、催化、化工、電化學與學術研究，並可依不同應用需求提供模組化與客製化質譜分析方案。
- All Products
- Gas Analysis
- Surface Analysis
- Catalysis & Thermal Analysis
- Thin Films, Plasma, Surface Engineering
- Residual Gas Analysis
- Nanotechnology
- Fusion Research
- Electrochemistry DEMS
- Dissolved Gas Analysis MIMS
- Software
-
Hiden IG5C 為 5 keV 銫離子槍，採低功率、高亮度表面電離源與緊湊型離子柱設計，可作為 Dynamic／Static SIMS 與成像應用的 Primary Ion Beam，支援高電流或小光斑模式，並可透過 Windows PC 或 LabVIEW 進行控制與 OEM 整合。Learn MoreIG5C 5 keV 銫離子槍－UHV SIMS 表面分析離子源 -
Hiden IG20 為 5 keV 高亮度電子撞擊式氣體離子槍，支援氧氣、氬氣及其他惰性氣體，可作為 SIMS、Auger 與 XPS 的 Primary Ion Beam，適用於成像、深度剖析、樣品清潔與表面科學研究。Learn MoreIG20 5 keV 氬氣／氧氣離子槍－UHV 表面分析離子源 -
Hiden RGA Series 四極桿殘餘氣體分析系統，用於真空品質診斷、洩漏偵測、污染監測與製程趨勢分析，涵蓋 HALO RGA、3F 與 3F PIC 多種規格平台。Learn MoreRGA Series－殘餘氣體分析儀與真空製程監測系統 -
Hiden HALO RGA 四極桿殘餘氣體分析儀，用於真空指紋分析、洩漏偵測、污染監測與製程趨勢分析，提供 100、200 或 300 amu 質量範圍與高靈敏度 Faraday / SEM 偵測配置。Learn MoreHALO RGA－殘餘氣體分析儀與真空診斷系統 -
Hiden RGA 離子源選配系統，提供標準型、UHV Low Profile、Closed Source、Cross Beam、Platinum、Gold-Plated 與 Vacuum Fired 等配置，可依真空、MBE、TPD、分子束、反應性氣體與低放氣需求最佳化殘餘氣體分析性能。Learn MoreIon Source Options－RGA 殘餘氣體分析離子源選配系統 -
Hiden HMT 雙模式高壓 RGA，可在無差分抽氣下直接操作至 5×10⁻³ mbar，並切換高靈敏度 RGA 模式，適用於 CVD、PECVD、PVD、蝕刻製程、污染監測、洩漏偵測與真空系統診斷。Learn MoreHMT－雙模式高壓殘餘氣體分析儀 -
Hiden HAL 201 RC 專為 UHV / XHV 超高真空環境設計，採低放氣真空退火離子源與高靈敏度偵測，適用於同步輻射光源、粒子加速器、Beam Line、核融合及高階真空系統診斷。Learn MoreHAL 201 RC－UHV / XHV 超高真空殘餘氣體分析儀 -
專為 MBE 分子束磊晶與 UHV 超高真空環境設計的高靈敏度 RGA，可即時監測背景氣體、污染物、洩漏與真空狀態，協助維持薄膜沉積氣體純度與製程穩定性。Learn MoreHALO 201 MBE－分子束磊晶 MBE 專用殘餘氣體分析儀 -
研究級 UHV / XHV 四極桿質譜分析系統，可量測中性物、自由基、正負離子與離子能量分布，支援 EAMS、軟電離、高質量分析及時間解析研究。Learn MoreEPIC / EPIC 1000 Series－UHV 中性物、自由基與離子研究級質譜儀