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產品專區
- Hiden Analytical
- Residual Gas Analysis
- HAL 201 RC
HAL 201 RC
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產品特色 |
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真空燒制的離子源，最大限度地減少了離子源的放氣現象 |
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電子衝擊電離器，帶有雙氧化層的銥金燈絲 | ||
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雙法拉第/通道式電子倍增器探測器 | ||
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最小可檢測部分壓力為5 x 10-14 mbar | ||
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最大工作壓力為1 x 10-4 mbar | ||
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為苛刻的UHV應用配置的殘餘氣體分析儀
Hiden RGA for UHV是為要求嚴格的UHV應用中的殘餘氣體分析而設計和配置的，這些應用需要在UHV下進行關鍵測量。
概述
HAL 201 RC分析儀的標準配置是真空燒制的離子源，採用Hiden專有的真空退火工藝處理。真空退火的離子源可以最大限度地減少放氣，在總壓力小於5 x 10-10 mbar的高真空應用中，可以獲得卓越的背景測量性能。
EPICS是世界上許多光源使用的標準儀器控制軟體，Hiden HAL系統與EPICS軟體驅動完全相容。
產品特色 |
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真空燒制的離子源，最大限度地減少了離子源的放氣現象 |
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電子衝擊電離器，帶有雙氧化層的銥金燈絲 |
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雙法拉第/通道式電子倍增器探測器 |
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最小可檢測部分壓力為5 x 10-14 mbar |
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最大工作壓力為1 x 10-4 mbar |
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