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Hiden Analytical－Thin Films, Plasma, Surface Engineering
Hiden Analytical 是英國專業四極桿質譜儀製造商，擁有超過 40 年的設計、研發與製造經驗，專注於先進研究、真空診斷與製程監測應用。產品涵蓋即時氣體與蒸氣分析（Gas Analysis）、殘餘氣體分析（RGA）、催化與熱分析、電化學質譜（DEMS／OEMS）、電漿離子分析、SIMS 表面分析及特殊取樣系統等完整解決方案。Hiden 系統廣泛應用於半導體、真空科技、材料科學、能源、催化、化工、電化學與學術研究，並可依不同應用需求提供模組化與客製化質譜分析方案。
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用於 CVD、ALD、MOCVD、電漿蝕刻與薄膜製程的即時氣體分析系統，可進行洩漏偵測、污染監測、製程趨勢與前驅物分析。Learn MoreHPR-30 Series 真空製程氣體分析系統 -
Hiden HPR-60 MBMS 為多級差動抽氣分子束質譜系統，可直接取樣大氣壓電漿及反應氣相中的中性物種、自由基與正負離子，降低取樣過程中的壁面碰撞與二次反應，適合電漿化學、反應動力學、燃燒、催化及高反應性氣相中間體研究。Learn MoreHiden HPR-60 MBMS 分子束質譜儀－自由基、離子與反應中間體分析 -
雙模式高壓 RGA 系統，可在最高 5×10⁻³ mbar 下直接進行真空診斷、製程監測、洩漏與污染分析，並可切換至高靈敏度 RGA 模式。Learn MoreHMT－雙模式高壓殘餘氣體分析與真空製程監測系統 -
高性能電漿質量／能量分析系統，可分析正負離子、中性物種、自由基及離子能量分布，適用於 HiPIMS、PVD、PECVD、Etching 與脈衝電漿研究。Learn MoreEQP Series－電漿離子質量與能量分析系統 -
用於電漿製程診斷的質量／能量分析系統，可直接分析正離子、中性物種與自由基，並量測離子能量分布，適用於 HiPIMS、電漿蝕刻、脈衝電漿與電漿化學研究。Learn MorePSM－電漿離子、自由基與中性物種質量／能量分析系統 -
先進型 Langmuir Probe 電漿診斷系統，可即時量測電漿電位、電子溫度、離子／電子密度、離子通量與 EEDF，支援 RF 補償、脈衝電漿與空間解析量測。Learn MoreESPion－先進型朗繆爾探針電漿診斷系統 -
差分抽氣式 SIMS 端點偵測系統，專用於 Ion Beam Etching 製程中即時分析 Secondary Ions，協助薄膜蝕刻端點判定、製程穩定性與品質控制。Learn MoreIMP-EPD－離子束蝕刻 SIMS 端點偵測與製程控制系統 -
專為 Hiden IMP-EPD 設計的蝕刻資料重播與端點偵測最佳化工具，可利用既有 Etch Data 模擬、調整及驗證 End Point 配方，降低晶圓耗用與製程開發成本。Learn MoreEP-Replayer－蝕刻端點偵測資料重播與製程最佳化軟體 -
專為 MBE 分子束磊晶與薄膜沉積設計的多源原位質譜監測系統，可同步監測多個分子束源並提供即時訊號，協助控制沉積速率、源穩定性與薄膜成長品質。Learn MoreXBS－MBE 多源分子束即時監測質譜系統