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Hiden Analytical－Surface Analysis
Hiden Analytical 是英國專業四極桿質譜儀製造商，擁有超過 40 年的設計、研發與製造經驗，專注於先進研究、真空診斷與製程監測應用。產品涵蓋即時氣體與蒸氣分析（Gas Analysis）、殘餘氣體分析（RGA）、催化與熱分析、電化學質譜（DEMS／OEMS）、電漿離子分析、SIMS 表面分析及特殊取樣系統等完整解決方案。Hiden 系統廣泛應用於半導體、真空科技、材料科學、能源、催化、化工、電化學與學術研究，並可依不同應用需求提供模組化與客製化質譜分析方案。
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Hiden Compact SIMS 緊湊型二次離子質譜儀，專為表面污染、薄膜層結構、雜質、同位素與奈米級深度剖析設計，支援 SIMS、SNMS、2D／3D 成像與質譜分析。Learn MoreCompact SIMS 緊湊型二次離子質譜儀 -
Hiden AutoSIMS 全自動二次離子質譜表面分析系統，整合自動 X-Y 樣品台與模組化樣品架，支援 24/7 無人值守 Static／Dynamic SIMS、奈米級深度剖析與高通量批次分析。Learn MoreAutoSIMS 全自動二次離子質譜儀 -
Hiden SIMS Workstation 超高真空表面分析系統，整合 Dynamic／Static SIMS 與 SNMS，可分析正、負二次離子，適用於薄膜深度剖析、痕量元素、同位素、3D 元素成像及材料表面組成研究。Learn MoreSIMS Workstation 高靈敏度二次離子質譜表面分析系統 -
Hiden ToF-qSIMS Workstation 創新整合 TOF-SIMS 與四極桿 SIMS，可同時提供高質量範圍、高質量解析度、平行全質譜資料收集與高動態範圍深度剖析，適用於聚合物、藥品、半導體、合金、塗層及介電材料等表面與微量成分分析。Learn MoreToF-qSIMS 飛行時間四極桿二次離子質譜表面分析系統 -
Hiden Dual Polarity SIMS Workstation 可在單次分析中同步收集正、負二次離子，利用對向雙 EQS 光譜儀提升收集效率與資料完整性，特別適合太陽能電池、氧化物、摻雜元素、痕量雜質及不可重複量測樣品的表面與深度剖析。Learn MoreDual Polarity SIMS Workstation 正負離子同步二次離子質譜表面分析系統 -
Hiden EQS SIMS Analyser 為高傳輸靜電四極桿二次離子質譜分析器，可分析正、負二次離子並同時量測離子能量，適用於 Dynamic／Static SIMS、FIB-SIMS、SNMS、濺射深度剖析及 XPS／FIB 系統升級整合。Learn MoreEQS SIMS Analyser 靜電四極桿二次離子質譜分析器 -
Hiden MAXIM 為高靈敏度 SIMS / SNMS 質譜分析器，支援正、負二次離子、Static／Dynamic SIMS 與中性物種分析，整合 30° 離子能量篩選、高傳輸萃取光學、Triple Mass Filter 與脈衝離子計數偵測器，適合絕緣材料、薄膜、表面成像與深度剖析。Learn MoreMAXIM SIMS / SNMS 二次離子與濺射中性質譜分析器 -
Hiden IG5C 為 5 keV 銫離子槍，採低功率、高亮度表面電離源與緊湊型離子柱設計，可作為 Dynamic／Static SIMS 與成像應用的 Primary Ion Beam，支援高電流或小光斑模式，並可透過 Windows PC 或 LabVIEW 進行控制與 OEM 整合。Learn MoreIG5C 5 keV 銫離子槍－UHV SIMS 表面分析離子源 -
Hiden IG20 為 5 keV 高亮度電子撞擊式氣體離子槍，支援氧氣、氬氣及其他惰性氣體，可作為 SIMS、Auger 與 XPS 的 Primary Ion Beam，適用於成像、深度剖析、樣品清潔與表面科學研究。Learn MoreIG20 5 keV 氬氣／氧氣離子槍－UHV 表面分析離子源