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FIB-SIMS 用於納米級材料分析
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為您現有的FIB系統增加高性能的SIMS功能
Hiden Analytical公司為現有的聚焦離子束（FIB）系統提供高性能的螺栓式二次離子質譜（SIMS），為先進的納米級材料分析提供出色的表面特異性和自然的高動態範圍。
我們的FIB-SIMS系統準備提高您的操作，從常規檢測任務到複雜的樣品製備。
概述
納米材料分析指的是一個不斷增長的儀器領域，其重點是檢測低至百萬分之一（ppm）範圍的痕量和超痕量元素。這對高靈敏度的三維（3D）元素圖譜和深度剖析至關重要；這兩種關鍵的材料分析方法都適用於分析和製備材料的鑒定應用。
聚焦離子束二次離子質譜法（FIB-SIMS）是高靈敏度納米級材料分析中最強大的材料鑒定技術之一。它結合了SIMS的特殊表面靈敏度和聚焦一次離子束，為感興趣的材料的最上層納米層的定性成分分析奠定了基礎。
FIB-SIMS可以提供基於同位素和離子（原子和分子）檢測的關鍵元素資料，具有廣泛的適用領域。
產品特色 |
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納米級元素表面測繪 |
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三維深度測繪 |
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材料分析 |
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卓越的靈敏度和動態範圍 |
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定制的軟體介面 |
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"Feature MS"模式允許從感興趣的特定區域獲得質譜資料，如污染物、晶界等 |
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可為任何FIB系統提供定制的安裝方案 |
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可伸縮的提取光學器件允許在不干擾其他分析設備的情況下操作 |
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規格 |
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<50納米的橫向解析度使用於表面測繪 |
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<20納米的深度解析度 |
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分析低至ppm級的微量元素（薄膜、半導體、太陽能電池） |
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同位素檢測（如69Ga、71Ga） |
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元素圖譜和深度剖析 |
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原子和分子離子的檢測（如Zr+和ZrO+） |
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