概述
納米材料分析指的是一個不斷增長的儀器領域,其重點是檢測低至百萬分之一(ppm)範圍的痕量和超痕量元素。這對高靈敏度的三維(3D)元素圖譜和深度剖析至關重要;這兩種關鍵的材料分析方法都適用於分析和製備材料的鑒定應用。
聚焦離子束二次離子質譜法(FIB-SIMS)是高靈敏度納米級材料分析中最強大的材料鑒定技術之一。它結合了SIMS的特殊表面靈敏度和聚焦一次離子束,為感興趣的材料的最上層納米層的定性成分分析奠定了基礎。
FIB-SIMS可以提供基於同位素和離子(原子和分子)檢測的關鍵元素資料,具有廣泛的適用領域。
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